【摘 要】
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本论文研究的主要内容就是采用CO2反应法在氢化锆表面建立氢渗透阻挡层(防氢渗透层)，该方法可归为化学气相沉积(CVD)这一类。通过加热氢化锆、高纯二氧化碳和磷，在设定的工
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本论文研究的主要内容就是采用CO2反应法在氢化锆表面建立氢渗透阻挡层(防氢渗透层)，该方法可归为化学气相沉积(CVD)这一类。通过加热氢化锆、高纯二氧化碳和磷，在设定的工艺参数下，通过反应气体在氢化锆表面吸附、离解，然后通过元素扩散和反应生成致密的膜层。本论文还对CO2反应法得到的氢渗透阻挡层的防氢渗透机理做了深入分析，通过XPS分析表明在700℃加热保温数小时后，膜层中重新生成了一部分新的C-H键、O-H基团(可能O-H又和锆形成Zr-OH键)，而且还生成了一种新基团：-COOH。这些新生成的基团和膜层中本来就存在的C-H键和O-H基团稳定的存在于ZrO2晶格间隙中阻塞了氢扩散的通道。
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