金属有机物化学气相沉积(MOCVD)是一门制造薄膜材料的关键技术，目前广泛应用于制备高质量半导体薄膜、铁电薄膜、超导薄膜和各种半导体器件。本文在研究了现代MOCVD技术的基本原理和特点的基础上，仔细分析了系统的工艺控制流程。通过对几种控制系统结构形式的比较，针对控制系统的实际需求，建立了相应的控制系统。 系统采用集散控制方式来控制薄膜的生长。整个MOCVD控制系统采用两级分布式控制结构，应用一台Pro-face系列触摸屏进行系统的监控管理、信号采集、数据处理及参数设定，利用OMRON系列可编程控制器(PLC)和智能仪表等实现各信号的转换来完成生产现场的过程控制，通过数据线联接PLC与触摸屏、智能仪表等控制部件，实现材料生长过程的全自动控制。软件开发中将采用模块化设计方法，将系统划分为若干功能模块，各模块之间保持相互独立，提高了系统的可靠性、可维护性，缩短了软件的开发周期；监控界面采用图形用户界面，为操作人员提供生动友好的人机接口，方便操作人员掌握和使用。为了确保系统所需的高可靠性，在硬软件两方面都采取了严格的抗干扰措施。 本文给出了MOCVD控制系统的一种行之有效的设计方法。测试结果表明，该系统操作简便，控制精度高，可靠性满足要求，运行稳定，控制效果良好。触摸屏和可编程控制器的联合应用，简化了现场操作，提高了控制程序和人机界面的灵活性，具有广阔的应用前景。