在OLED生产工艺中等离子体清洗有着非常重要的应用,但是常规等离子清洗受到真空条件和腔室容量的限制,不能处理大型基板,以及不规则零件。常压等离子突破了真空的限制,有广阔的发展前景。同时透明导电薄膜作为OLED平板显示器件生产中重要的组成部分,一直为ITO所主导。由于铟资源的短缺,各种替代型材料的研究引起越来越多人的关注。透明金属网格导电材料作为其中一种是一个热门的研究方向。首先,本文用课题组研究开发的常压等离子喷枪对OLED生产工艺中的沾污进行了清洗处理和效果表征。1、实验表明清洗光刻胶速率可以达到800nm/min。可以有效去除机械零部件中的有机物NPB。但对于Alq3这种含有金属元素的有机物,常压等离子喷枪设备用氧等离子不能去除。2、用Ar等离子对金属表面处理后,接触角由未处理之前的82°下降到15°,明显改善了金属表面的亲水性质。3、用H2混合N2在放电条件下对PCB板的金属引脚进行处理,从显微镜下可以看出金属表面恢复光亮,随着氢气含量的增加,效果更加明显。其次,对金属网格导电膜的制备工艺进行了系统的研究。在PMMA衬底上制作一种网格状的Au线条。在探索常规的湿法腐蚀工艺中发现网格中金属断线和粘连是制约导电膜性能是否良好的关键问题。针对断线问题提出了一种利用刻蚀和剥离结合的有效方法,制备出线条完整,形貌良好,透过率可控的金属线条网格。当金属线条宽度为10umm时,可见光的透过率可以达到74%。