氧化锌(ZnO)、二氧化钛(TiO2)作为两种重要的功能材料,具有良好的光学和电学性能,在光催化、太阳能电池和传感器等方面有着重要的应用。本文采用反应磁控溅射法制备ZnO、TiO2薄膜,并对薄膜的结构,表面形貌,光学性能进行了表征。采用射频反应磁控溅射法在石英玻璃基片上制备ZnO薄膜,研究发现薄膜微结构影响其光致发光性能。最佳溅射条件：溅射功率为100W,基片温度为500℃,溅射气压为0.6Pa,氩氧比为20／5.5,溅射时间为60分钟。采用直流反应磁控溅射法在单晶硅(100)、ITO玻璃基片上制备TiO2薄膜,探索出溅射条件为功率130W,基片温度400℃,溅射气压5Pa,氩氧比20／15,溅射时间120分钟时,TiO2薄膜紫外吸收和可见光透过性能最佳。本论文通过XRD及SEM分析,探讨研究在不同溅射参数下沉积ZnO、TiO2薄膜的微结构特点和表面形貌特征,并分析ZnO薄膜的光致发光特性及材料特性和TiO2薄膜的紫外吸收性能及可见光透过率。由实验结果可得,采用最佳溅射工艺参数下,ZnO薄膜随着晶粒增大,光致发光强度越强；TiO2薄膜随着晶粒增大,紫外吸收率越大,可见光透过率越高。