论文部分内容阅读
两步法银催化溶液刻蚀是目前制备硅纳米线阵列的一个重要途径。为了掌握硅纳米线阵列结构与性能之间的相互联系,本课题研究了影响硅纳米线阵列结构的主要因素,以及如何通过这些因素调控硅纳米线阵列结构,并深入研究其减反特性。论文首先研究了影响沉积银形貌的参数。沉积银的颗粒形状以及表面覆盖率随Ag NO3浓度、HF浓度以及沉积时间增大而增大,采用合适的参数可以制备不同的沉积银形貌。沉积银形貌存在一个平衡银颗粒总量,当实际银颗粒总量小于平衡银颗粒总量时,硅纳米线的长度随银颗粒总量增加而增加,而当实际银颗粒总量大于平