装饰性薄膜应用领域非常广泛。其一般设计方法是滤光膜系设计法，这种方法不仅繁琐，而且所需的膜层数多，实际生产中需要很高的镀膜工艺技术。本文重点讨论一种改进的塑料基材装饰性薄膜设计法，并解决了薄膜制备过程中遇到的一些关键性问题。以薄膜干涉理论为基础，导出了薄膜干涉产生的颜色与膜厚间关系，并据此设计出比较简单的膜系结构，降低了对镀膜工艺的要求；在磁控溅射制备单质金属(如Al、Ni、Cr)装饰膜以及彩色装饰膜过程中，通过对薄膜膜厚均匀性影响因素的分析，调整工艺参数，解决了镀制高透薄膜时，由于膜厚均匀性而引起的生产率下降问题；从光学塑料的特性出发，通过薄膜附着力理论分析，改变工艺参数，解决了Al膜与塑料基材附着力差的问题；通过薄膜膜系应力理论分析，提出在彩色装饰膜系中的金属膜表面镀制一层致密介质薄膜，结果不仅保护了金属膜，减少了潮气影响，还可以使整个膜系所受的应力减少，有效改善了薄膜附着力。