脉冲压缩光栅是激光脉冲啁啾放大技术中重要的核心元件,随着高功率脉冲激光器输出能量的不断增大,光栅的口径已经达到米级。全息记录技术是脉冲压缩光栅制作过程中一个关键的技术,如何精密控制全息光栅掩模的槽形结构是制作大口径压缩光栅过程中的一个重要课题。本文开展了大口径全息记录光场下干涉光场的稳定性研究,具体研究工作如下:1、全息干涉条纹稳定性的表征。研究了在大口径全息干涉光场中,干涉条纹的稳定性对全息记录的影响。研究不同干涉条纹漂移量移动方式与记录光场的条纹对比度之间的关系。分析全息光栅记录过程中基片温度变化,激光光束方向变化,激光波长变化等因素,对干涉条纹的影响。采用三维条纹稳定控制方式可以实现对全息干涉光场控制。2、开展光刻胶的曝光特性研究。研究Shipley9912光刻胶在曝光过程中随着曝光量的不同,光刻胶对记录光吸收率的变化情况。对不同厚度光刻胶进行感光实验,得到相应的平均吸收率曲线,利用理论反演模拟获得光刻胶随着曝光量变化的吸收特性曲线。通过台阶实验,研究光刻胶的显影特性,得到不同显影时间下的平均显影速度曲线,结合光刻胶吸收率,经理论反演模拟得到光刻胶显影速度曲线。3、建立新型的光刻胶光栅非线性曝光模型。考虑到在全息记录中光刻胶的吸收率随着曝光量变化而改变,为此提出非线性曝光模型,给出非线性曝光模型相关计算公式,利用该模型分析光刻胶光栅在全息记录过程的曝光情况,以实现精确控制光刻胶光栅槽形结构目的。利用非线性曝光模型,研究和分析不同干涉条纹稳定性对全息光栅槽形结构的影响,开展多种空频全息光栅感光和显影实验,实验结果验证了非线性曝光模型的准确性。