【摘 要】
:
复合材料薄膜钛硅氮(Ti-Si-N),以其优异的力学性能和化学稳定性,一直以来成为硬质材料领域的研究热点。本论文通过利用磁控溅射技术制备复合结构的Ti-Si-N薄膜,基底是Al金属和Si
论文部分内容阅读
复合材料薄膜钛硅氮(Ti-Si-N),以其优异的力学性能和化学稳定性,一直以来成为硬质材料领域的研究热点。本论文通过利用磁控溅射技术制备复合结构的Ti-Si-N薄膜,基底是Al金属和Si片,研究了在不同的工艺条件下薄膜的性能。并且利用电子探针(EPMA)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、纳米压痕仪和划痕试验机对薄膜的结构和机械性能进行了测试表征。结论如下: (1)利用JGP-280型单靶磁控溅射主要研究了气压对薄膜性能的影响。 随着溅射气压的增大,制备的Ti-Si-N薄膜的厚度并未发生明显的变化。由此可知,溅射气压对薄膜沉积速率的影响不大。随着溅射气压的升高,薄膜的表面粗糙度变大。随着溅射气压的升高,薄膜的硬度值明显下降,当溅射气压为0.5Pa时,薄膜的硬度达到最大,为21.2GPa。 (2)利用JGP-450A型三靶磁控溅射系统研究了N2流量、Si靶功率和负偏压对薄膜性能的影响。 随着N2流量的增加,薄膜的沉积速率逐渐减小。N2流量为15sccm时硬度值达到最大值,为23.2GPa。 通过XRD图谱可以看出,不同Si靶功率下制备的Ti-Si-N薄膜呈现出多晶结构,具有(111)、(200)和(220)择优取向。在Si靶功率为0W和80W时,方均根粗糙度分别为19.68nm和10.92nm。随着Si靶功率的逐渐增大,薄膜的硬度和杨氏模量值变大,并且在Si靶功率为30W时达到最大值,分别为27.1GPa和298.5GPa,此时产生了最高强度的膜基结合力,为1800g。 薄膜的沉积速率随着负偏压的增大持续降低。当偏压增大到200V时,Si含量达到最大。在负偏压为100V的时,薄膜硬度值达到最大,为26.2GPa。负偏压为300V时膜基结合力达到最大,为650g。
其他文献
夸克胶子等离子体(QGP)是量子色动力学(QCD)预言的强子物质在高温高密时的一种状态,这个时候强子物质中被禁闭的夸克可以以夸克自由度存在。QGP被认为是宇宙大爆炸之后很短时
商务部于11月20日发布73号公告,公布了对原产于印度和日本的进口吡啶反倾销终裁决定。公告称自2013年11月21日起,对进口原产于印度和日本的吡啶征收反倾销税。印度吉友联生命
利用结构色开发新型绿色环保的防伪材料,越来越引起人们的兴趣。尤其是以电化学方法制备的氧化铝模板为基础开发新的多功能防伪材料,由于其制备方法简单、价格低廉,受到了人们的
有人评价有效的课堂教学是科学与艺术的完美结合。政治课涉及的知识范围较广,同现实生活的联系又十分紧密,更要求教师具有广博的知识结构和快速的应变能力,灵活自如地设计教
随着我国经济结构的调整和就业方式的转变,高校毕业生的就业问题越来越受到社会的关注.高等院校如何帮助学生从入校起就做好规划,从而在毕业时能比较容易的在竞争激烈的就业
高职院校由于专业实践教学的特殊性,在院、系两级教学管理体制下,系级教务员作为基层教学单位最直接的教学管理者,对其提出了更高的要求,而其职业素养的高低、能力的大小直接
铁酸铋(BiFeO3,BFO)是一种常温下同时具有铁电性和反铁磁性的单相多铁材料。作为一种多功能材料,它在多态存储器、新型磁电传感器、自旋电子器件等方面具有潜在的应用。本论文从一维结构的BFO出发,结合化学元素掺杂,通过静电纺丝法制备出一维结构的BFO以及Sm3+掺杂BFO纳米纤维。系统地研究了Sm3+掺杂对BFO纳米纤维的相结构、磁性、介电、铁电、压电以及光伏特性的影响。退火后BFO纳米纤维的形
哲学是一门思考宇宙、问辩人生,思考运动、问辩永恒的学问,它具有神秘、抽象与思辩的特点,对于一群涉世不深的青少年来说,学习起来确实有一定的难度.心理学研究表明,听觉、视
本文针对高职教育与其他教育的不同点,阐述了接受高职教育者的需求,并在此基础上对高职教育的主要目标和方向进行了分析.从社会对高职人才的能力、素质等方面的需要阐述了笔
本论文设计了用于诊断低气压CHF3/Ar介质阻挡放电等离子体中CF2基团粒子数密度的光谱测量装置,并分别利用吸收光谱法和发射光谱内标法对CHF3/Ar介质阻挡放电等离子体中CF2基团