亚波长结构光学器件因其优越的光学特性，在空间探测、消费电子等多个领域有着广泛的应用。基于玻璃衬底的亚波长抗反射结构具有高损伤阈值、宽谱段和大视场等优点，能改善传统光学薄膜材料受限、附着力差和热胀失配等不足，可用于高功率激光系统中光学元器件的表面减反。本论文主要对玻璃衬底亚波长结构的抗反射特性开展相关的理论与实验研究。采用严格耦合波理论，研究二维单台阶和连续面型亚波长结构的抗反射特性，主要分析了结构参数及排列方式对反射率的影响。针对高功率激光系统中的常用波段，分别设计了六角排列的圆锥面型和抛物面型亚波长抗反射结构。模拟结果表明，圆锥面型和抛物面型结构在波段0.33-1.35μm内分别实现了低于0.2%和0.3%的反射率。纳米压印技术被誉为下一代光刻技术，广泛用于亚波长结构光学器件的制作。本论文采用热压印和紫外压印工艺，分别在K9玻璃衬底上制备方形排列的圆锥面型亚波长结构；利用热压印工艺制备的圆锥面型结构的有效面积大于20mm×20mm，将波长1.064μm处的反射率降至0.83%。此外，研究了刻蚀时间和掩膜厚度对结构形貌的影响。研究结果表明，通过增加刻蚀时间和掩膜厚度可以提高结构的深宽比。利用纳米压印这一新型光刻技术，在玻璃衬底上制备了二维亚波长抗反射结构，为光学器件的表面减反提供了新的方案，在高功率激光系统中具有潜在的应用前景。