随着光电子器件、平板显示器和激光全息行业的快速发展和技术进步,对激光直写系统的性能提出了更高的要求。从国内外激光直写系统的研究与制造商的情况来看,其研究及应用领域略有不同,由于国外在光电子、平板显示的先导性和培育情况良好,国外的研究工作与上述关键行业的接轨良好,主要集中在单光束精密快速激光光刻技术和设备研制方面,应用于集成电路制造、微光学元件加工、激光直写布线技术、MEMS、、MOEMS和光学检测等各个领域。国内也有多家研究机构对激光直写系统及工艺进行了大量的研究,主要应用在数码光变图像、二元光学元件制作以及各种掩模板制作等方面,在光电子、平板显示行业的涉及面较少。本文介绍了一种采用数字微反射镜(DMD)输入的激光并行直写系统,适用于超高分辨率图像光刻制造,并支持多光束干涉光刻(interference lithography)。通过智能识别图形的轮廓,实现了对高分辨率图像的高效率的制作,采用DMD逐面输入方法,大大提高了光刻系统运行效率,克服了单光束直写和e-beam曝光技术,高分辨率图形与运行效率低的矛盾。通过控制输入图形的结构、刻蚀深度、干涉条纹取向,激光并行直写光刻系统不仅能够制作精密平面图形,同时也支持光学可变图像(Optical Variable Device,OVD)如2D/3D、3D以及超微图形文字、二元光学元件以及光导板的制造。图像处理软件和控制软件是基于激光并行直写系统丌发的。提出了高分辨率光变图像处理与输入方法,使得制作高分辨率的衍射图的步骤简便,支持具有复杂结构的2D/3D、3D图像以及各种微图形与文字处理与输入,并采用不同的曝光方式与之匹配,有效提高了系统的运行效率,。通过对系统软硬件设计及应用的深入研究,得出了一套高性价比、实用化的实验研究设备,其部分技术已得到工业化应用(如新一代驾驶证)。