基于巨磁阻抗效应器件的应用前景以及复合结构多层膜材料在巨磁阻抗效应研究工作中的重大意义。本文根据Ni₈₀Fe₂₀材料的特性设计并通过磁控溅射法制备了几何结构分别为： (Ni₈₀Fe₂₀／SiO₂)_n／Cu／(SiO₂／Ni₈₀Fe₂₀)_n 以及(Ni₈₀Fe₂₀／Cu)_n／SiO₂／Cu／SiO₂／(Cu／Ni₈₀Fe₂₀)_n的复合结构多层膜。通过XRD谱、磁滞回线等测量方法，研究了由样品几何结构引起的样品材料晶体结构、磁性能等变化，以及其对样品巨磁阻抗效应的影响，主要结果如下： 1、几何结构为(Ni₈₀Fe₂₀／SiO₂)_n／Cu／(SiO₂／Ni₈₀Fe₂₀)_n的复合结构多层膜，当采用多组双层结构（n＞1）后，由于随着膜厚的减小，其Ni₈₀Fe₂₀层磁矩平行于膜面的分量逐渐增大，样品的巨磁阻抗效应明显增大；当n=3时，观测到最大的纵向巨磁阻抗（LMI）效应为10.8％，最大的横向巨磁阻抗（TMI）效应为17.1％。当n=4，5时，由于界面效应的影响，巨磁阻抗效应比n=3时，略有减小。 2、几何结构为(Ni₈₀Fe₂₀／Cu)_n／SiO₂／Cu／SiO₂／(Cu／Ni₈₀Fe₂₀)_n的复合结构多层膜，当采用Cu层作为阻隔层后，由于随着膜厚的减小，其Ni₈₀Fe₂₀层磁矩平行于膜面的分量逐渐增大，样品的巨磁阻抗效应明显增大；并且由于Cu与Ni₈₀Fe₂₀有相近的晶体结构，当n=4，5时，样品的巨磁阻抗效应未发生明显的减弱现象。