随着设备的小型化和微制造的日益发展，近年来薄膜的制备已经成为最活跃的研究领域之一，这是由于它们在广泛领域具有潜在的应用。作为一个重要方面，薄膜材料与大体积材料相比，它们具有独特的性能，例如在电子，显示，传感器，光学设备等方面，它们满足了装置小尺寸的需求，因此无论是在理论上还是在实践中都引人注目。微接触打印法作为软石印方法的一种，是制备微纳米尺寸的图案化薄膜的有效方法。这个过程是利用一个PDMS弹性模板作为图章，首先在石英片基质上创造图案，结合溶胶-凝胶过程在亲水性的区域沉积发光体，而前驱体溶液作为该过程中的墨水。利用X－射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、光学显微镜、X-射线能量散射谱（EDS）、紫外－可见吸收光谱（UV-vis）等技术对合成材料的结构、形貌、组成进行表征，用光致发光光谱、低压阴极射线发光光谱研究了图案化样品的光学性质。在紫外光和低压阴极射线的激发下，制备的稀土发光薄膜材料能分别呈现出所掺杂的稀土离子的特征发射。采用微接触打印法和溶胶-凝胶法制备了规则圆点点阵的GdVO₄:Ln (Ln=Eu³⁺,Dy³⁺, Sm³⁺)薄膜发光图案。在紫外光和电子束的激发下，GdVO₄晶格中的Eu³⁺，Dy³⁺，Sm³⁺离子分别呈现出属于它们的⁵D₀-⁷F₂,⁴F_9/2-⁶H_13/2和⁴G_5/2-⁶H_7/2特征跃迁。利用溶胶-凝胶和微接触打印技术相结合的方法制备了具有圆点点阵的Gd₂（WO₄）₃:Ln (Ln=Eu³⁺, Tb³⁺)发光薄膜图案。在紫外光和低压电子束的激发下，Gd₂（WO₄）₃:Eu³⁺样品表现出来自于Eu³⁺离子的⁵D_0,1,2–⁷F_1,2电子跃迁产生的强的红光发射，而Gd₂（WO₄）₃:Tb³⁺薄膜样品呈现的绿光发射则是来自Tb³⁺离子相应的⁵D₄–⁷F_6,5,4,3电子跃迁。实验结果表明，采用Pechini型溶胶—凝胶路线与微接触打印技术相结合的方法来实现稀土离子的图案化对于场发射显示装置有潜在的应用前景。