液晶显示器由于具有高清晰度、低功耗、零辐射、长寿命、体积小等特点已经成为显示器件的主流,主要的液晶显示技术有ECB、TN、IPS及MVA等。MVA模式液晶显示技术由于具有高对比度、宽视角以及快速响应等特点,已经成为大尺寸液晶显示器的主流技术。但是在MVA模式液晶显示器件中需要在电极基板上制作一些凸起以及氧化铟锡的细缝结构,这些凸起和细缝结构的制作极为复杂而且成本很高,并且这些凸起和细缝的对位十分困难,大大地降低了产品的良率。为此,如何避免制作这些凸起结构已经成为许多科研工作者的研究重点。AIFF MVA模式液晶显示技术在制作过程中避免了制作普通MVA模式中需要的复杂且昂贵的凸起结构,而是利用像素边缘之间产生的边缘电场效应来实现对内部液晶分子的控制,这样极大地节约了制作成本且极大地提高了产品的良率,而且AIFF MVA模式的视角特性,亮度以及对比度都比传统MVA技术有所改善。但是在AIFF MVA模式液晶盒中会出现黑纹,这使得AIFF MVA模式功耗难以降低,限制了AIFF MVA模式液晶显示的进一步发展。本文首先介绍了液晶显示的理论基础及计算机模拟的算法；接下来用MATLAB软件模拟了ECB和TN模式液晶显示的电光特性,并且所得到的液晶盒内液晶分子的指向矢分布和液晶盒的V-T曲线与实际情况下这两种液晶盒的指向矢分布以及V-T曲线符合地很好；然后模拟了AIFF MVA模式液晶显示的电光特性,分析了像素电极尺寸大小和像素间间隔尺寸大小对液晶盒边缘黑纹形成的影响,最后综合黑纹的改善和整体透过率,提出了AIFF MVA像素电极的优化设计思想,并且将AIFF MVA的模拟结果与实际实验相对照,验证了计算机理论模拟的可靠性。