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B-C-N相的特殊性质引起了人们浓厚的兴趣,以高纯B4C(99.99%)靶所制备BCN薄膜由于具有优异的力学性质和耐磨性,可望在某些领域替代类金刚石膜(DLC)。BCN薄膜的制备方法很多,如化学气相沉积及物理气相沉积等。本论文采用了双离子束溅射沉积技术在Si (100)、NaCl和石英基片上在不同的工作参数下成功的制备了BCN薄膜,研究了工作参数对BCN薄膜结构及性质的影响。在实验中,用Ar和高纯N2分别作为主源和辅源溅射气体,用高纯B4C(99.99%)靶制备BCN薄膜。采