光纤窃听与反窃听技术的研究是当今各国国防科研人员的重要工作内容。本文首先概述了光纤窃听技术的发展历程和现状,有针对性地分析了关于光纤窃听技术中的光纤耦合问题,并详细介绍了用于熔融拉锥耦合器的强耦合理论和用于氢氟酸腐蚀与边研磨光纤耦合器的弱耦合理论;分析了耦合模方程,得出了耦合模方程的形式解,推导出耦合系数的计算公式。同时,本文还具体介绍了上述三种传统的光纤耦合器制作方法,即熔融拉锥法、氢氟酸腐蚀法和边研磨法制作光纤耦合器的原理以及制作工艺。本文对氢氟酸腐蚀法制作光纤耦合器的反应装置和实验系统进行了设计,介绍了具体的实验过程及其注意事项,通过对实验结果进行分析总结,得出泄漏光功率随腐蚀时间的变化关系以及泄漏光功率与包层剩余厚度和腐蚀长度的关系。另外,针对耦合效率低的存在问题,提出了一种新的设计方案-整体腐蚀法。此外,文中重点介绍了边研磨光纤耦合装置的设计方案,具体的边研磨过程以及相关注意事项。通过实验得出损耗功率和耦合功率随包层剩余厚度的变化曲线,对实验结果进行分析,并与理论结果进行比较。针对制作周期太长、控制研磨面平面度难等问题,提出了一种新的耦合器改进方案,并提出了一种可对打磨过程中包层剩余厚度进行实时监控的方法-液滴法。最后,对熔融拉锥法、氢氟酸腐蚀法和边研磨法三种方法的可行性进行了分析与比较,得出一套比较适用于光纤窃听的设计方案。