论文以制备适用于锂离子电池的低轮廓超薄电解铜箔为研究目标,系统研究了明胶(G)、硫脲(TU)、聚丙烯酰胺(PAM)、羟乙基纤维素(HEC)等添加剂单独添加与复合添加对铜箔性能的影响;通过试验优化了镀Zn-Ni阻挡层和在Cr-Zn-Ni-H体系电化学钝化的工艺参数;研究了在160-240℃退火与自然时效对铜箔力学性能的影响,并探索了铜箔的化学抛光和电化学抛光工艺。实验结果表明,添加剂可以有效抑制铜的电结晶过程,有利于获得致密光滑的表面,其中添加明胶的效果最为明显;在添加G,TU,HEC复合添加剂时,制备出的厚度为9 um的铜箔具有良好的性能,抗拉强度达370 MPa,伸长率达4.5%,表面光亮,毛面粗糙度为Rz2.2。对于厚度为9 um的电解铜箔,当采用电流密度200 A/m2,在含Zn2+-25 g/L、Ni2+-4 g/L的镀液中沉积5-10 s时,获得的镀层具有良好的耐腐蚀性和高温力学性能;而在Cr-Zn-Ni-H体系中电化学钝化的最佳工艺为:Cr+6-1 g/L,Zn2+-1 g/L,Ni2+-6 g/L,电流密度200 A/m2,钝化效果最好,在200℃下放置15 min都不变色。退火会明显降低铜箔的抗拉强度,且随保温时间延长,强度下降越大,但伸长率有所提高;自然时效也会降低铜箔的抗拉强度,伸长率变化不明显。采用H2SO4-H2O2-冰乙酸体系进行化学抛光时,H2SO4、H2O2、冰乙酸的含量分别是80,300,100 ml/L,并使用添加剂BTA,SDS和EDTA?2Na时铜箔的抛光效果较好,可以获得光亮光滑的表面,毛面粗糙度约Rz 1.8-2.0,并可明显降低铜箔光面与毛面的表面粗糙度差。当采用磷酸-乙醇体系进行电化学抛光时,在磷酸占80%(体积比)时,抛光效果最佳;在添加剂BTA,SDS,EDTA?2Na,G含量各为1.5,0.6,1,0.2-0.8 g/L时,抛光获得的表面光亮,呈亮白色,毛面粗糙度可达到Rz1.7,与光面的粗糙度一致。