CVD金刚石膜摩擦化学抛光技术研究

被引量 : 9次 | 上传用户：zhiqi_xu

【摘要】

：

CVD金刚石膜是由化学气相沉积技术沉积的纯金刚石多晶膜,具有最高的硬度和热传导性,良好的化学稳定性和透光性等优越的光学及物理化学性能,被视为21世纪最有发展前途的新材料,在高新技术领域和国防尖端技术领域都有广泛的应用。但是化学气相沉积的金刚石膜表面粗糙、均匀性差,极大限制了金刚石膜的工业应用。所以在工业应用时金刚石膜表面必须经过很好的抛光平坦化处理。热化学抛光技术是目前研究较多而且能够实现金刚石膜

【作者】

：

苑泽伟

【机构】

：

大连理工大学

【发表日期】

：

2008年12期

【关键词】

：

CVD金刚石膜摩擦化学抛光抛光盘接触模型材料去除机理

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