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NiO是一种重要的p型半导体功能材料，具有稳定而较宽的带隙，能够吸收紫外光，其在电容电极、气敏传感器、陶瓷材料和催化剂方面应用广泛。人们发现纳米氧化物作为光催化剂降解染料废水等污水，产物为一些简单的无机物、CO2和水，对环境不造成二次污染，其光降解过程和产物均是无污染环保的，这是常见的污水处理法所不能达到的效果，因此纳米氧化物在环境保护、污水治理等方面应用广泛，目前人们研究比较多的光催化剂是TiO2，ZnO等，纳米NiO作为光催化剂降解染料废水也有部分研究。主要集中在提高单独纳米NiO或掺杂纳米NiO光催化降解染料的降解率以及调节辐照光的波长，使NiO能更好地被近紫外或可见光催化，而对其降解机理的研究还较少。 本文采用两种不同的合成方法自行合成出了一系列不同性质纳米NiO以及掺杂M2+(M=Fe，Co，Cu，Mn)的Ni(M)O样品，并通过SEM、XRD、IR、UV、PL、BET、TG等分析手段对其性质进行了表征。以纳米NiO作为光催化剂，以亚甲基蓝(MB)作为降解对象，紫外光(254nm)作为照射光源，研究了纳米NiO光催化降解MB反应的最佳降解条件和反应动力学特征，并深入探讨了NiO/UV体系的光催化降解MB的机理。 本文第一章主要概述了现阶段纳米NiO的应用研究、合成方法以及作为光催化剂方面的应用，并对本课题的提出、研究意义、创新点和主要研究内容进行了概述。第二章主要总结了纳米氧化物作为光催化剂的降解过程的机理和历程。第三章主要论述了纳米NiO及掺杂M2+(M=Fe，Co，Cu，Mn)的Ni(M)O的合成方法及其性质表征，通过SEM、XRD、IR、UV、PL、BET、TG等分析手段获得了不同NiO样品的特性，为后续的降解研究提供有价值的参考数据。第四章主要研究了UV/NiO降解MB反应其实验条件如pH值、NiO投放量、MB浓度等对降解率的影响，并获得了最佳降解实验条件：NiO投放量为1g/L，pH=6.5，MB浓度10mg/L，降解温度38±0.5℃，照射时间为1h。比较了不同碱合成的NiO样品降解MB的降解率的高低，发现由NaOH合成得到的NiO样品的降解率最高；而对于同一前驱体，采取不同温度煅烧获得的NiO样品600℃煅烧温度最好，过低和过高的煅烧温度都会使样品的降解率降低。对不同掺杂氧化镍样品，研究发现，掺杂M2+(M=Fe，Co，Cu，Mn)离子后得到的Ni(M)O样品的降解率均低于未掺杂的NiO。第五章主要研究了UV/NiO体系光降解MB的动力学特性，实验证明UV/NiO降解MB的反应为一级反应，并进一步确认了反应满足Langmuir-Hinshelwood模型，其表面反应的速率常数κ=0.207mg·L-1·min-1，吸附平衡常数K=0.0585L·mg-1。第六章深入探讨了UV/NiO体系光降解亚甲基蓝的降解机理。使用对苯二甲酸测定UV/NiO降解MB体系中羟基自由基的相对含量，采用甲醇或异丙醇、NaF、无水乙腈等作为OH·的捕获剂，Ag+作为电子捕获剂来确定UN/NiO体系中起决定性作用的活性中间体，结果发现，对于由NaOH、CO(NH2)2和N(CH2CH2OH)3作为碱合成的NiO样品，其降解MB的反应均由体系中产生的OH·来控制，对于由NH3·H2O作为碱合成的NiO样品，其降解反应是由hvb+控制，同时还分析了合成条件以及NiO性质对降解机理的影响。 本文对NiO的合成以及光催化降解MB的体系做了一定程度的研究，但还有一些问题需要继续探索，如合成上的改进，掺杂Ni(M)O样品光降解机理的进一步研究以及NiO样品的回收等方面。