【摘 要】
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本文采用不同的热处理工艺分别对Ti_(54.5)Ni_(45.5)、Ti_(51.2)Ni_(48.8)和Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6)薄膜进行晶化退火,利用X射线衍射仪(XRD),原子力显微镜(AFM)、分光光度计系统地研究薄膜织结构、表面形貌及光学反射率。研究表明,经不同的热处理工艺晶化退火后,三种薄膜室温下均为马氏体相,Ti_(54.5)Ni_(45.5)薄膜中析出相主
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本文采用不同的热处理工艺分别对Ti_(54.5)Ni_(45.5)、Ti_(51.2)Ni_(48.8)和Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6)薄膜进行晶化退火,利用X射线衍射仪(XRD),原子力显微镜(AFM)、分光光度计系统地研究薄膜织结构、表面形貌及光学反射率。研究表明,经不同的热处理工艺晶化退火后,三种薄膜室温下均为马氏体相,Ti_(54.5)Ni_(45.5)薄膜中析出相主要为Ti2Ni,Ti_(51.2)Ni_(48.8)薄膜中无析出相,Ti_(44.5)Ni_
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