【摘 要】
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本文采用不同的热处理工艺分别对Ti_(54.5)Ni_(45.5)、Ti_(51.2)Ni_(48.8)和Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6)薄膜进行晶化退火，利用X射线衍射仪（XRD），原子力显微镜（AFM）、分光光度计系统地研究薄膜织结构、表面形貌及光学反射率。研究表明，经不同的热处理工艺晶化退火后，三种薄膜室温下均为马氏体相，Ti_(54.5)Ni_(45.5)薄膜中析出相主
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本文采用不同的热处理工艺分别对Ti_(54.5)Ni_(45.5)、Ti_(51.2)Ni_(48.8)和Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6)薄膜进行晶化退火，利用X射线衍射仪（XRD），原子力显微镜（AFM）、分光光度计系统地研究薄膜织结构、表面形貌及光学反射率。研究表明，经不同的热处理工艺晶化退火后，三种薄膜室温下均为马氏体相，Ti_(54.5)Ni_(45.5)薄膜中析出相主要为Ti2Ni，Ti_(51.2)Ni_(48.8)薄膜中无析出相，Ti_(44.5)Ni_
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