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KDP(磷酸二氢钾,Potassium Dihydrogen Phosphate的简称)作为一种优良的光学晶体,具有良好的非线性光学特性和高的激光损伤阈值,在非线性光学应用领域有着不可替代的作用。但是,KDP晶体同时具有对热敏感(易热裂)、质地软脆(易出现划痕,或其他材料嵌入)、易受潮解(表面雾化)、各向异性等一系列不利于光学加工的物理特点,给高精度的加工(如精细切割和抛光等)带来很大的困难。为了探索KDP晶体精密加工的新方法,本文创新性地提出了将激光抛光技术应用于KDP晶体的表面抛光上,并通过激光抛光装置、激光束特性和激光抛光工艺参数对抛光质量的影响规律以及激光与KDP晶体的相互作用机理等方面的研究,来探讨激光抛光KDP晶体的表面质量可行性。本课题首先提出四种不同的激光抛光方案,进行对比实验验证,从而获得最有效的抛光方案;然后,研究了该方案中的各因素对激光抛光KDP晶体表面质量的影响,并获得了激光波长、激光入射角、单脉冲能量密度、光斑搭接率、激光扫描方式和激光聚焦深度等关键影响因素对激光抛光KDP晶体的具体影响规律,并通过优化工艺参数来提高KDP表面抛光质量。在实验结果基础上,对激光与KDP晶体的相互方式的抛光KDP晶体的机理做了进一步分析讨论;最后对课题进行了总结与对后续工作的展望。至此,在现有条件下,本论文获得的成果主要有以下几个方面:(1)获得了现有条件下较有效的抛光方案——“振镜直线扫描,工件直线运动式”抛光,并提出了一种最理想的抛光方案——“激光束旋转,工件直线移动式”抛光;(2)获得了激光抛光的关键参数及对激光抛光晶体表面具体的影响规律,并对各参数进行了优化。在皮秒激光波长为355nm、聚焦镜焦距f=56mm、激光束入射角a=84°、激光重复频率F=800kHz、脉冲能量密度Q=2.4J/cm~2、光斑搭接率O=60%、45°多方向交叉扫描以及加工次数T=10次的参数条件下,获得的KDP晶体表面粗糙度可达Ra=76nm;(3)通过对实验过程中的KDP晶体抛光表面检测与实验结果分析,对激光抛光参数影响KDP晶体的作用机理进行了系统分析。