光学功能薄膜涉及到光电产业、国防、环境科学等众多领域,具有很强的应用背景。本文利用磁控溅射技术制备了几种新型光学功能薄膜,主要包括:SiO_x薄膜、YSZ耐高温光学薄膜、TiO₂光催化和自清洁功能薄膜。通过对材料的筛选,对薄膜材料微结构及性能的调控,以及对制备工艺的研究与优化,取得了一些具有实用价值的研究成果。文中还对影响光学薄膜性能的内在因素和作用机理进行了分析和讨论。本论文的具体研究内容和主要结果如下:1.利用反应磁控溅射技术制备了不同氧化程度的SiO_x薄膜,研究了不同温度下退火对其光学参数的影响。讨论了SiO_x材料体系在不同温度下退火后,薄膜的微结构与组成的演变过程,具体包括相分离引起的成分变化,退火对样品应力的释放和对缺陷的修复作用,以及不同氧化程度薄膜折射率的变化机理等。2.针对光学薄膜在高温下的应用,研究了Nb₂O₅、Ta₂O₅等传统光学薄膜材料在高温下微结构及光学参数的劣化;提出了钇稳定氧化锆（YSZ）材料在耐高温光学薄膜领域的应用。从光学参数和微结构的稳定性等方面讨论了YSZ薄膜材料的耐温性能及机理。所获得的YSZ/SiO₂多层膜光学器件在800℃下光学性能无明显退化。该结果拓展了光学薄膜在高温条件下的应用前景。3.发现了ZnO前驱层对TiO₂薄膜的结晶增强的效应,并研究了该增强效应的机理。提出了利用ZnO前驱层来调控TiO₂薄膜的结晶度和表面粗糙度的方法,研究了TiO₂/ZnO薄膜的光催化和自清洁性能及影响因素。利用磁控溅射技术获得的TiO₂/ZnO双层结构薄膜表现出比单层TiO₂薄膜更加优越的光催化活性和亲水性。这一结果具有很好的工业应用前景。