NdFeB磁体表面硅烷薄膜的制备及其性能研究

来源 :合肥工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:junjian1127
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烧结NdFeB磁体自问世以来,以其优异的磁性能而被广泛应用于国民经济的各个领域。但NdFeB磁体的耐蚀性能极差,严重限制了其应用领域的进一步拓展。因此,需要在烧结NdFe B磁体表面添加防护涂层,提高磁体的耐蚀性能。本文采用硅烷化技术对NdFeB磁体进行表面防护处理,在磁体表面制备了硅烷转化膜。为磁体表面防护提供了一种新型环保的暂时性防护措施。采用浸涂法在烧结NdFeB表面制备了硅烷转化膜,利用盐雾试验测试其耐腐蚀性能,进而采用正交试验法对影响硅烷水解、成膜的工艺参数进行了优化,结果表明:硅烷水解的最佳工艺参数是硅烷偶联剂浓度为150 ml/L,醇水比为80:20,水解温度为30℃,水解时间为24 h,PH值为11,硅烷成膜的最佳工艺参数是浸涂时间为2 min,在80℃下预烘烤15 min,固化温度为180℃,固化时间为1.5 h。采用最佳工艺参数在磁体表面制备的硅烷转化膜的耐蚀性能较好,但力学性能较差。为了改善烧结NdFeB磁体表面硅烷转化膜的力学性能及耐腐蚀性能,通过在浸涂溶液中掺杂纳米CeO2颗粒对硅烷转化膜进行了改性处理,制备了CeO2/硅烷复合薄膜。采用中性盐雾试验和动电位极化曲线对涂层的耐蚀性能进行了研究,分别采用拉力试验机和显微硬度计对基体与涂层之间的结合力及CeO2/硅烷复合薄膜的显微硬度进行了测试。结果表明:在NdFeB磁体表面涂覆的CeO2/硅烷复合薄膜较硅烷转化膜具有更加优异的耐腐蚀性能和力学性能。对在NdFeB磁体表面制备的硅烷转化膜和CeO2/硅烷复合薄膜的腐蚀机理进行了系统探究,并初步建立了相应的腐蚀模型。为烧结NdFeB磁体表面实现硅烷化防护处理提供了技术支持。
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