ITO(氧化铟锡)透明导电薄膜是一种重要的光电功能薄膜,它在平板显示技术、有机发光二极管和太阳能电池等领域中有着重要的作用。复杂线路的设计以及ITO的高电阻限制了它的应用,在ITO导电玻璃表面进行化学镀镍是降低其电阻值行之有效的方法。但镀层与基体之间的结合力、镀层的选择性沉积是急需解决的问题。本文以ITO作为研究基体材料,研究了化学镀镍前处理技术,获得的基底选择性良好,然后施以酸性化学镀镍,得到的镀层结合力佳。通过外观目测,结合力测试,SEM,EDS对镀层的分析,确定了前处理工艺最佳条件。研究结果表明,在不同类型的刻蚀液中,以磷酸为主的刻蚀液(0.02~0.03mol/L)能够得到刻蚀均匀的表面;同时以丁二酸为主的催化液得到的镀层表面光亮。通过探究时间、温度和浓度分别对蚀刻、催化、活化效果的影响,并观察镀层表面形貌和结合力情况来确定工艺参数,最终得到无漏镀的镀层。实验研究了工艺参数对镀镍层的影响,确定了最佳的镀镍工艺。通过对比不同工艺得到的镀层的沉积速率、镀层形貌、覆盖率和结合力来确定工艺条件,得到了结合力良好且方阻小的镀镍层。本工艺可以得到结合力和选择性良好的镀层,热处理实验表明,镀层在控制热处理温度在530℃,得到的镀层平整,颗粒均匀。