本文从以下几方面对激光调阻机的光刻平台系统进行了控制研究与设计： 结合实验分析了光刻平台的动、静态性能和定位精度对电阻光刻质量的影响，并针对目前最微小的0402型号电阻对光刻平台提出了控制要求。 研究了带动光刻平台的新型直线电机控制原理，通过反复调整比例、积分等一系列伺服控制参数，并结合光刻平台阶跃动态曲线，提高了光刻平台的响应性。为了提高光刻平台的定位精度，通过在控制中采用斜率校正法，减小了光刻平台的定位误差，解决了光刻平台的定位精度问题。 光刻平台换行时间较长会影响整机的光刻效率。针对这个问题，提出了一种光刻平台与测量探针组的并行工作方式，实现了光刻平台的高速换行，解决了光刻平台的速度问题。 设计编写了全部光刻平台系统自动控制程序和人机交互程序，使其具有全自动上片、检片、装片、换片、光刻、收片功能，实现了激光调阻机的全自动光刻过程。 为了避免由于机械故障或人为误操作等原因，对昂贵的测量探针组以及光刻平台等精密运动器件造成损坏，对光刻平台系统进行了可靠性设计，使其具有了动态故障自诊断和自保护功能，保护了光学系统、光刻平台和测量精密探针组的安全。 实现了一种光刻平台与光学系统的在线对光路功能，简化了光刻平台与光学系统的光路对准调整工作。 采用以太网与并口结合的通讯方式，实现了上位机与光刻平台系统的数据传递与同步。