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本文通过沉降试验、动电位测定和接触角测定,系统地研究了铜镍硫化矿浮选体系中难免组分、无机调整剂、表面活性剂和有机调整剂对滑石在水介质中分散与聚集行为的影响规律,研究了药剂作用前后滑石的表面电性和润湿性的变化规律。在此基础上,利用扩展DLVO理论计算了各种药剂作用前后滑石颗粒间的相互作用能,探讨了滑石在水介质中分散与聚集的机理。 研究结果表明: 滑石在纯水介质中,层面接触角为68°,端面接触角为58°,零电点为3.2。当pH值变化时,层面和端面的接触角均不变,表面ζ电位会随pH增大急剧变负。当滑石表面ζ电位达—40mV时,滑石颗粒仍处于聚集状态。 水介质中Cu2+、Ni2+和Fe3+使滑石凝聚,使等电点pH值增高,但不改变滑石的接触角。当Cu2+、Ni2+和Fe3+浓度分别为4×10-4mol.L-1时,滑石的等电点pH值分别增至8、8.8和7.6。 在适宜的pH和药剂用量时,氟硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠和月桂酸钠对滑石在水介质中的分散有一定的作用,它们可以将滑石的分散率提高3%~5%。这三种药剂使滑石表面ζ电位的值变的更负,但基本不改变滑石的接触角。 CMC对滑石的分散作用最佳,在pH为10.5,用量为:100mg.L-1,滑石的分散率提高了8.1%。CMC可以降低滑石表面ζ电位,更使滑石由疏水性变为亲水性,滑石层面接触角从68°下降到32°,端面接触角从58°下降到28°。CMC与氟硅酸钠或月桂酸钠混合用药,滑石的分散率均会进一步提高。 颗粒间的相互作用能计算结果表明,由滑石层面所引起的表面疏水作用能是决定滑石在水介质中分散与聚集的主要因素。增大双电层作用能,对滑石的分散率影响不大,不能使滑石颗粒稳定分散在水介质中,因此克服表面疏水作用能是颗粒稳定分散的关键。