W-Cu电触头材料的制备及其性能研究

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论文对W-Cu触头材料的粉末冶金工艺参数、合金组分、掺杂元素进行研究,并对材料进行电磨损试验以研究其耐电磨损性能和电磨损机理。通过对试样进行静态性能和电磨损量测量以及运用SEM及EDS分析等方法,系统研究了不同制备工艺及合金成分对合金性能的影响,结果表明:粉末烧结制备W-Cu合金的最佳制备工艺为湿法球磨18h→900℃×1min热压烧结→熔渗→90KN复压。可获得致密度为95.6%的合金。添加Nb和Ni元素可改善合金的性能,其中添加Nb时平均致密度提高了1.735%,硬度提高了56.25HB。添加Ni时平均致密度提高了1.36%,硬度提高了63.56HB,添加6%Nb或2%Ni的效果最好。W-Cu30的耐电磨损性能最佳,W-Cu20最差,电磨损量是前者的两倍。W-Cu50和W-Cu40的耐电磨损性能介于两者之间,四种材料的不同电磨损机理导致了耐电磨损性能差异。W-Cu50电磨损机理为在电弧作用下大面积的Cu相磨损,在两相交界处产生裂纹并扩展至Cu富集区域。W-Cu40的电磨损机理为在电弧作用下产生的Cu磨损,W相已经作为部分骨架存在抑制电弧作用。W-Cu30的电磨损机理为均匀分布构成骨架的W相抑制电弧作用而Cu相充分散热,降低磨损量。W-Cu20的电磨损机理有两种,分别为Cu相流失W相形成表面大面积凝固层或Cu相流失继而W相被电弧剥蚀形成表面多孔形貌。
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