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该文的研究内容主要包括：大口径光学薄膜厚度的分布及其均匀性修正，蒸发源蒸发特性的模拟和实验验证以及薄膜光学不均匀性的修正。
在镀制光学薄膜的时候，膜厚均匀性是一个重要问题。膜厚的均匀性不好，将严重影响薄膜的特性。膜厚均匀性是指膜厚随基板表面位置的变化，它和蒸发源与基板之间的配置以及蒸发特性有关。
该文对一般常用的平面转动夹具进行了理论分析和实验验证，并根据薄膜厚度的实验分布结果，设计了改善高反膜膜厚均匀性的修正挡板。
蒸发源的蒸发特性是光学薄膜均匀性的重要影响因素，该文对蒸发源的蒸发特性和蒸发过程中出现的挖坑效应进行了模拟，并进行了实验验证。由此得到的结论对于实际镀膜有着很强的指导意义。
理论上分析了薄膜光学不均匀性的原因，提出用针对不同材料的单独挡板来同时修正薄膜的厚度和光学不均匀性，现已设计出所需的机械机构并进行调试和实验验证。