现如今在半导体发光材料中,多孔硅和氧化锌的应用领域是极为广泛的。因为这两种材料都有光致发光现象,并且两者发光强度都很高。这也奠定了两种材料可以在发光领域有优异的实用前景。多孔硅与氧化锌相结合,制备出的多孔硅/氧化锌复合材料,可以使两种材料的发光性能共同激发出来并产生叠加。最终可以形成白光发射。白光的实现对半导体发光器件具有相当深远的意义。本文先是用金属辅助化学刻蚀法制备了多孔硅,再用多孔硅作为衬底,溶胶-凝胶进行多孔硅和氧化锌的复合。最终用SEM、XRD以及PL谱对多孔硅/氧化锌复合薄膜进行测试。研究结果表明:(1)金属辅助化学刻蚀成功制备出不同参数的多孔硅衬底,再用溶胶-凝胶成功制备出了不同多孔硅/氧化锌复合薄膜。(2)制备多孔硅过程中沉积溶液银离子浓度选用0.03mol/L,刻蚀时间选用20min,多孔硅/氧化锌复合薄膜选用800℃退火时,复合薄膜表面形貌相对平整,晶粒致密度最佳,衍射峰最强并且出现了c轴择优生长。(3)所有多孔硅/氧化锌复合薄膜在可见光区都形成了光致发光带,呈现白光发射。制备多孔硅过程中沉积溶液银离子浓度选用0.03mol/L,刻蚀时间选用20min,多孔硅/氧化锌复合薄膜选用800℃退火时,通过分光峰谱可以看出,在这三个参数时的氧化锌都展现出了深能级缺陷发光,并和多孔硅发光形成了叠加,致使多孔硅/氧化锌复合薄膜在可见光区的有很强发光强度,并能形成稳定的白光发射。