惯性约束核聚变(Inertial Confinement Fusion简称ICF)是人类解决全球能源危机的一个有效途径,其中ICF驱动系统中大口径平面光学元件的加工质量是ICF系统性能的关键,所以对大口径光学元件的加工和检测提出了新的要求,尤其是大口径平面光学元件的检测成为重中之重。本课题就是在相移干涉的基础上进行大口径平面光学元件测量的关键技术研究。用相移干涉法测量高精度的平面时需要一个更高精度的平面作为参考面,因此在高精度大口径平面光学元件的面型检测中,需要引入绝对测量来对参考面误差和系统误差进行有效的标定。本论文主要针对平面的绝对测量技术进行研究,三平面互检法是一种重要的用于高精度光学平面绝对测量的干涉测量方法,它是对三个待测平面两两组合进行测量,得到三个平面各自的面型信息。传统的三平面互检法仅能实现对三个平面各自在平面Y轴方向—维面型的绝对测量,本论文在传统三平面互检法的基础上,采用一种改进的新方法实现了平面三维面型的绝对测量,从而进一步实现了对参考面误差和系统误差的有效标定。通过对实验设备的改造和数据处理程序的编写,实现了改进三平面互检法对三个高精度平面的实验测量和数据处理,并得到最终的测量结果。对这种改进方法的测量结果与ZYGO干涉仪中"three-flats"程序的直接测量结果进行比较和分析,验证了这种改进方法的可行性和有效性。该研究成果为本课题的后续研究提供了指导性结论。