【摘 要】
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自1972年紫外线照射下TiO_2电极表面光解水发现以来,半导体光催化剂的研究引起了非常广泛的关注。近几十年来,研究主要围绕着提高光催化效率、可见光催化活性、具有维数的半导体光催化材料三个大的方向研究。具有高催化活性的金属/非金属掺杂半导体和复合半导体、具有可见光催化活性的半导体材料、具有维数(包括一维、二维和三维)的半导体光催化材料相继被制备出来。光催化反应属于表面反应,因此材料的表面性质与其光
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自1972年紫外线照射下TiO_2电极表面光解水发现以来,半导体光催化剂的研究引起了非常广泛的关注。近几十年来,研究主要围绕着提高光催化效率、可见光催化活性、具有维数的半导体光催化材料三个大的方向研究。具有高催化活性的金属/非金属掺杂半导体和复合半导体、具有可见光催化活性的半导体材料、具有维数(包括一维、二维和三维)的半导体光催化材料相继被制备出来。光催化反应属于表面反应,因此材料的表面性质与其光催化活性有着非常重要的关系,而材料的表面性质主要通过表面形貌来体现。因此制备具有特殊形貌的半导体
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