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单晶硅反射镜是高能激光系统中的重要元件,其加工质量直接关系激光系统的性能指标。而在光学元件制造过程中会引入各种加工缺陷,导致元件抗激光损伤能力与本征表面相差甚远。离子束抛光由于其独特的材料去除机理可以达到亚纳米级的修形精度,加工过程不会引入亚表面损伤等,具备低缺陷制造的优异潜质。但离子束加工效率偏低,加工过程可能会诱导产生表面微观结构,需要深入优化研究。本文以单晶硅反射镜离子束抛光关键工艺为研究对象,对离子束加工柱面镜的去除函数进行了数学建模仿真,研究了倾斜入射情形下离子束抛光对单晶硅表面质量的影响