为了应对日益复杂的电磁环境以及潜在的强电磁武器攻击威胁,武器装备的光电探测及显示成像系统在满足视觉观测功能的同时,还亟需提高应对电磁干扰及强电磁武器防护的能力。透明屏蔽技术可实现良好可见光透过率的同时提供有效的电磁屏蔽,是解决光电探测系统及显示成像系统电磁防护问题的最有效手段。本论文针对上述问题围绕透明屏蔽材料设计与制备开展了以下研究工作。论文在分析透明防护材料实现原理基础上,设计了金属网格型透明屏蔽材料及其高精度电流体喷墨打印工艺,制备的柔性透明电磁屏蔽材料在8-12 GHz频段内具有电磁屏蔽效能大于30 dB、可见光透光率高于76%的良好性能。论文通过进一步分析金属网格结构参数对透明屏蔽膜电磁屏蔽性能、光学透过性能以及机械柔韧性能的影响,发展了一种基于电流体喷墨打印的透明屏蔽材料快速加工制备方法。针对透明屏蔽材料的透光与屏蔽性能之间的矛盾关系,通过仿真分析研究,实现了透明屏蔽材料透光率与屏蔽性能之间的解耦设计,提出了透光性与屏蔽性双重增强的有效方法,并对所设计的透明屏蔽材料进行了测试,验证了透光率与屏蔽性能之间的解耦方法的有效性。采用纳米压印混合增材工艺实现的高透光、高屏蔽的六边形金属网格透明屏蔽材料,在12-18 GHz频段内具有屏蔽效能大于50 dB、可见光透光率高于89%的综合性能。论文研究了透明屏蔽材料的设计与制备工艺,提出了透明屏蔽材料透光性与屏蔽性双重增强的有效方法,发展了透明屏蔽材料的快速加工制备方法,设计实现了高透光、高屏蔽的透明屏蔽材料,可为光电系统的电磁防护提供有效手段,具有良好的应用前景。