大尺寸溴化铊晶体生长及晶片表面处理研究

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溴化铊具有密度大(7.56g/cm3),原子序数高(Tl:81,Br:35),禁带宽度(2.68eV),电阻率高(约1011Ω·cm),熔点低(460oC)及晶体结构简单(简单立方)等优点,是室温核辐射探测器的优选材料,近年来成为国内外探测器材料的研究热点。尽管对溴化铊室温核辐射探测器的研究由来已久,但在大尺寸、高质量晶体的生长及晶体的表面处理等研究上尚存在诸多难题,本文对此进行了探索。  采用垂直动态梯度凝固法生长溴化铊晶体,首先生长了直径为8mm的TlBr单晶,在此基础上成功生长了直径为15mm的大尺寸TlBr单晶。  由于溴化铊晶体和石英安瓿热膨胀系数相差两个数量级,在晶体生长过程中易在晶体中产生应力,从而导致位错等晶体缺陷的大量产生。针对此问题,采用了内壁镀碳膜的石英安瓿生长晶体。通过对晶体的表面形貌、光学特性、电学特性分析表明,采用内壁镀碳膜的石英安瓿生长晶体能够有效提高晶体的质量。  晶片的表面质量直接影响晶片的漏电流及探测器性能,因此在探测器的制备过程中,晶片的表面处理是关键的工艺之一。为此研究了不同化学腐蚀液对晶片表面形貌和晶体特性的影响。通过对比不同化学腐蚀液腐蚀后的晶片的光学显微形貌(OM)、扫描电子显微形貌(SEM)及晶片表面的EDS分析,结果表明,和溴–甲醇溶液相比,埃弗森腐蚀液对富铊相有更好的腐蚀效果。
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