光学薄膜是高功率激光系统中必需的重要元件,其抗激光损伤能力往往成为限制激光系统向更高功率发展的主要瓶颈。大量激光损伤实验表明:在ns级脉冲范围,薄膜的激光损伤主要是由缺陷引起的。通过深入分析光学薄膜中缺陷的来源、节瘤缺陷的结构特征及损伤特性,可以达到优化薄膜制备工艺、提高薄膜抗激光损伤能力的目的。　　 论文采用人为预植纳米颗粒的方法,较系统地研究了节瘤缺陷的结构特征和损伤特性。采用多种表征技术分析了节瘤缺陷的表面形貌、内部微观结构和损伤形貌;通过实验测试,分析了节瘤缺陷对薄膜损伤阈值的影响;采用时域有限差分法(FDTD)模拟了节瘤缺陷所引起的电场增强效应,并分析其对激光损伤过程的影响;基于小球吸收模型和热弹理论,发展和完善了节瘤缺陷的热力耦合损伤模型;采用吸收率不同的纳米颗粒作为预植种子,验证了节瘤种子的尺寸和吸收率对损伤过程的影响。　　 基于温度场理论,采用FDTD方法模拟分析了0°入射条件下1064nm高反膜中常见的平底坑和节瘤坑的场分布情况,很好地解释了平底坑和节瘤坑在后续激光脉冲作用下的损伤增长行为。　　 通过分析损伤实验结果和损伤形貌,探讨了355nm和1064nm激光对介质高反膜损伤的相同点和不同点;基底亚表面缺陷对增透膜和高反膜损伤的影响。