MOCVD控制系统的建立及TiO<,2>薄膜的试制

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该文建立了低气压壁MOCVD设备的控制系统,它包括MO源温的控制,输气管道温度的控制,混气室-反应室温度的控制,输气管道阀门的控制,气体流量的控制,以及系统压力的监测和各路电源的开关控制.整个系统可采用手动或自动控制两种方式,并可完成一套控制系统对两套反应系统的切换控制功能.利用该设备进行了TiO<,2>薄膜的试制工作,讨论了MOCVD工艺中影响薄膜质量的关键因素.最后,对TiO<,2>的结构进行了研究,X-ray衍射分析表明:在较低的温度下,TiO<,2>呈锐钛矿结构,高温热处理后将向金红石结构转变.
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