可调谐半导体激光器和色散补偿器是波分复用系统的核心器件，对光网络的传输质量起到了至关重要的影响。作为这两种器件的重要组成部分，Bragg光栅受到了众多研究者的广泛关注。其中，拥有良好反射谱特性的新型多相移Bragg光栅是一研究热点，并有望在可调谐半导体激光器以及色散补偿器中获得应用。就众多Bragg光栅制作技术而言，纳米压印技术具有分辨率高、成本低、产量高等传统光刻技术不具备的优势，非常适合制作新型多相移Bragg光栅。　　本文围绕着新型多相移Bragg光栅的设计与制作，展开了一系列的研究，具体工作如下：　　（1）基于耦合模理论和传输矩阵法，建立了Bragg光栅反射特性和色散特性的模型。利用建立的模型，对取样光栅、多相移取样光栅、多相移数字级联光栅的反射谱特性进行了理论分析。针对大范围可调谐半导体激光器的应用，设计了多相移取样波导光栅和多相移数字级联波导光栅。针对多通道色散补偿的需求，提出并设计了基于多相移数字级联取样啁啾光纤光栅的色散补偿器；　　（2）利用Comsol软件的固体力学模块，对压印过程的基本规律进行了仿真，通过仿真研究了压印胶的填充度受各项参数的影响，为后续实验过程中的参数优化提供了理论参考；　　（3）对多相移数字级联波导光栅的纳米压印制备进行了研究。通过引入软模板技术和变温变压过程，采用纳米压印工艺制备了多相移数字级联波导光栅图形。检测结果表明，压印的图形具有很好的均匀性，各项参数符合指标。通过优化刻蚀参数，在Si衬底上制作出了周期、深度、相移符合要求，侧壁垂直度较好的多相移数字级联波导光栅。