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铁电薄膜材料经过几十年的发展,各种性能研究及其应用日趋成熟。随着大规模薄膜集成电路及集成铁电器件的发展,大面积铁电薄膜的制备已成为一项重要的研究任务。本论文通过激光变速扫描熔蚀靶材来制备大面积无铅铁电薄膜,从理论和实验上研究如何利用脉冲激光沉积技术(PLD)制备出厚度均匀的5英寸大面积Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12) (BNT)铁电薄膜,并对制备的薄膜的微观结构和性能进行表征。1.借助运动学方程模拟了5英寸BNT薄膜的生长轨迹,同时结合羽辉沉积半径,建立了5英寸大面积