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本论文利用磁控溅射法制备了TiO_2薄膜及其新型纳米结构,研究了其生长规律和结构特征。TiO_2薄膜的制备利用反应溅射方法进行,研究了不同氧氩流量比、溅射气压、基体温度以及溅射功率对TiO_2薄膜生长及其结构的影响。TiO_2纳米结构的制备首先利用溅射法沉积金属薄膜,然后结合适当的氧化工艺完成,研究金属薄膜成分、热处理温度、升温速率,氧化时间等对纳米结构形成的影响规律,并研究在Ti膜中引入Cu和Zn元素对TiO_2纳米结构生长的影响。本研究中采用Raman、XRD、SEM和椭偏仪对薄膜结