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近年来,由于抗生素类药物的大肆应用导致了严重的水体污染问题,如四环素类抗生素不能被机体完全吸收,会以代谢的形式排入环境中,进而通过生物链影响生态的平衡和威胁人类的健康。目前在众多处理抗生素技术中,半导体光催化降解技术对处理废水中的抗生素残留具有广泛的应用。它作为高级氧化技术具有强氧化降解能力、便于操作等优点,可以高效地作用于有机污染物。在众多光催化半导体材料中g-C3N4作为一种非金属共价化合物,具有稳定、无毒、廉价易得、无二次污染等优点被广泛应用于光催化领域。但是g-C3N4本身也存在局限性,比如对可见光具有较低的吸收能力、载流子分离效率较低、降解过程中缺乏选择性和可控性等。因此,本论文围绕g-C3N4存在的问题,通过设计一系列的g-C3N4复合光催化剂实现环境中四环素类抗生素污染物的有效处理,主要研究工作如下:1.通过直接沉淀法和光引发聚合法合成了分子印迹型Ag/Ag3VO4/CN复合光催化剂。采用XPS、XRD、SEM、HRTEM、FT-IR和电化学测试等表征结果研究了材料的物理化学性能。以四环素和土霉素模拟污染物,在可见光条件下探究分子印迹型Ag/Ag3VO4/CN复合光催化剂的光催化活性和选择性。通过分子印迹技术改性Ag/Ag3VO4/CN催化剂后,分子印迹型光催化剂的光催化活性得到进一步的提高,在2 h时对四环素的降解率达到90.18%。通过选择性实验得到分子印迹型Ag/Ag3VO4/CN光催化剂在降解过程中的选择性因子（α）达到3.20,实现了在光催化过程中对目标物的选择性降解。2.以三聚氰胺、三聚氰酸、硝酸银、氯化钠和丙烯酸为原料,以乙醇为溶剂,通过一步煅烧法和直接沉淀法制备AgCl/CN复合光催化剂,进一步通过乳液聚合法得到酸敏型PAA@Ag/AgCl/CN光催化剂。通过UV-vis DRS、SEM、TEM、XRD和电化学测试等表征了制备的材料,并应用于降解四环素。当PAA将Ag/AgCl/CN催化剂修饰后,PAA@Ag/AgCl/CN对四环素的降解效率提高到79.11%。我们通过降解实验证明了PAA@Ag/AgCl/CN在不同pH值降解四环素的智能响应性。此外,结合电子自旋共振图谱分析（ESR）和捕获实验得出了·O2-和·OH在光催化降解过程中起重要作用。3.选用偶氮苯（Azo）对Ag/Ag2O/CN进行表面修饰,制备了具有光敏响应型功能的Azo@Ag/Ag2O/CN光催化剂。对复合光催化剂进行的表征测试有UV-vis DRS、XRD、TEM、SEM、FT-IR、Raman和XPS等,并通过在不同光源下测试光催化降解四环素的能力。结果表明:由于偶氮苯在可见光和紫外光条件下具有顺反异构现象,从而导致不同的颜色特性,使得Azo@Ag/Ag2O/CN光具有不同的光催化降解性能。使用四环素模拟污染物,所制备的光敏响应型复合材料在可见光和紫外光条件下的光降解效率分别为87.7%和31.5%。4.以过硫酸铵（APS）作为引发剂,N’N-亚甲基双丙烯酰胺（MBA）作为交联剂,N-异丙基丙烯酰胺（NIPAM）作为温敏功能单体,构筑了具有温敏响应型功能的PNIPAM@Ag/Ag3PO4/CN催化剂。对复合光催化剂进行的表征测试手段有UV-vis DRS、XRD、TEM、SEM、FT-IR、EDS和XPS等,并通过在不同温度下测试光催化降解四环素的能力。结果表明,在高温下（45℃）,PNIPAM@Ag/Ag3PO4/CN的光催化降解效率为56.73%;在低温下（20℃）,降解效率提高到88.96%。