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掺氟二氧化锡(FTO)薄膜作为透明导电氧化(TCO)薄膜,因其化学性质稳定,可见光区具有高透光率以及良好的导电性等优点,被广泛的应用于太阳能电池、气敏传感器、液晶显示屏等领域。但由于传统工艺制备的FTO薄膜,其光电性能往往无法满足当前快速发展光电器件的需求,为此研究者们集中于对FTO薄膜进行后续处理的研究。本文在调研薄膜激光表面处理相关研究的基础上,提出基于聚对苯二甲酸乙二酯(PET)贴膜和金属Ti层复合两种方式的FTO薄膜激光表面处理方法,着重研究激光参数对薄膜表面形貌、晶体结构、光学性能以及电学性能的影响,获得了一些有意义的结果。1、采用532 nm波长的纳秒脉冲激光对贴附了PET膜的FTO薄膜进行表面处理,着重研究激光能量密度和扫描速度对FTO薄膜光电性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和四探针测试仪对FTO薄膜的表面形貌、晶体结构、透光率和方块电阻进行表征,并采用品质因子(FTC)对FTO薄膜的光电性能进行综合评估。实验结果表明,贴附PET膜不仅可以拓宽激光工艺参数,避免FTO薄膜受到损伤,而且可以使薄膜表面获得更好的退火效果。其中,当激光能量密度为1.2 J/cm2、扫描速度为10.0 mm/s时,薄膜的综合光电性能最佳。其在400800 nm波段的平均透光率为82.0%,方块电阻为7.9Ω/sq,品质因子为1.7×10–2Ω–1,相比原始FTO薄膜品质因子(1.1×10–2Ω–1)提高了54.5%。2、采用直流磁控溅射法,在FTO薄膜表面复合金属Ti层制备Ti/FTO复合薄膜,研究了Ti层厚度对Ti/FTO薄膜光电性能的影响。结果发现,当Ti层厚度为10 nm时,复合薄膜的品质因子值最大,为1.3×10–2Ω–1。再利用532 nm波长的纳秒脉冲激光对优化制备的Ti/FTO薄膜进行表面处理,主要研究激光能量密度和线间距对复合薄膜形貌、结构和光电性能的影响。实验结果表明,采用适当的激光能量密度和线间距对薄膜进行表面处理,一方面激光对复合薄膜表面起到退火作用,促进了复合薄膜的晶粒生长、消除部分晶体缺陷;另一方面促使Ti层氧化成TiO2层,最终使薄膜的综合光电性能得到提升。其中,当激光能量密度为0.8 J/cm2、线间距为20.0μm时,Ti层完全氧化成TiO2层,此时激光退火效果最好,TiO2/FTO复合薄膜的综合光电性能最佳。其中,在400800 nm波段范围内平均透光率为83.4%,方块电阻为8.7?/sq,品质因子为1.9×10–2Ω–1,相比单层FTO薄膜的品质因子(1.2×10–2Ω–1)提高了58.3%。