本文首先结合电子束光刻和硅深刻蚀工艺，创造性地提出了一种利用刻蚀沟槽侧壁的扇贝形貌来制备三维纳米硅栅阵列的方法，并应用于纳米流道中。本文首先获得了在固定刻蚀菜单下的扇贝结构特征尺寸和产生纳米硅栅的掩模宽度有效范围，然后通过电镜表征获得了硅栅缝隙随纳米掩模宽度的变化曲线，最终通过调节纳米掩模宽度，实现了对各种类型的三维纳米硅栅流道的可控制备。把本文提出的纳米硅栅阵列集成到传统微流道结构中，可应用于微纳流体的净化、提纯、分离等，有益于在流体检测中，提高对目标物探测的精确度和灵敏度。　　本文又提出了一种仿荷叶结构的新型超亲疏水性衬底——基于在微米级硅柱表面蒸发自组装PS和SiO2纳米颗粒形成的微纳复合结构。本文通过对该复合结构建模进行浸润性理论分析，计算并仿真了不同微米级结构所构成的超亲疏水衬底的表观接触角理论值，以及接触角随复合结构各项参数的变化关系。之后讨论了该结构的制备工艺和侧壁上进行纳米颗粒自组装的排布效果，接着对不同的超亲疏水性衬底进行了接触角测试实验，并与理论值加以对比分析。最终结果表明，该微纳复合结构对本征疏水性和亲水性有着对称性的放大作用，能达到超亲疏水性衬底的要求，而且只需变更自组装的纳米颗粒材料即可分别实现超疏水和超亲水衬底之间的转换。基于本结构，可实现一种新型的基于亲疏水性差异的表面微流道结构，利用表面张力的差异来驱动流体定向流动，这在生化微流控等领域具有重要意义。　　本文提出的两种新型结构，材料普遍、加工简单、周期重复性好，不仅推动了微纳加工技术的进一步发展，更开拓了在微流控技术和微流道相关领域的研究，具有重大的应用价值和前景。