液晶模板合成有序形态的氧化硅

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该文主要研究了以表面活性剂及其混合体系为模板导向剂合成形态有序的中孔SiO<,2>无机材料的形成条件及结构变化的规律.其中以单一阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴 化铵(CTAB)为模板剂以合居六方相中孔氧化硅的各种影响因素(酸碱度、表面活性剂浓度, 反应时间、后处理温度)进行了研究,指出了硅酸四乙酯(TEOS)水解反应的三种催化方法(酸碱两步催化B2)的优缺点,提出了合成六方排列中孔氧化硅的最佳条件并得到了具有圆球形 态的中孔氧化硅的最佳条件,并得到了具有圆球形态的中孔氧化硅.对七种非离子表面活性剂模板导向剂的作用进行了比较,重点研究了混合表面活性剂体系的作用.以阳离子表面活性剂---非离子表面活性剂为混合模板剂,实现了对中孔化硅孔径的连续调控.以阳离子表 面活性剂一阴离子表面活性为混合模板剂合居出了立方相中孔氧化硅.首次进行了在中孔氧化硅中载入稀土离子的初步尝试.
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