本文采用磁过滤阴极弧(FCVA)技术制备含钛类金刚石膜(Ti-DLC)。采用原了力显微镜(AFM)分析了薄膜表面形貌,结果表明,虽仍有少量未过滤掉的颗粒,但薄膜总体上致密平整。采用电子探针(EPMA)、Raman光谱、X射线衍射(XRD)和X射线光电子谱(XPS)对薄膜的成分和结构进行了分析。结果表明随着C2H2流速的减少和弧流的增加,薄膜中Ti含量增加,而且弧流的增加是Ti含量增加的主要因素,在Ar与C2H2流速比分别为20：60和20：100的两种条件下,弧流由45A增加至65A均使薄膜中Ti的含量增加了一倍以上。Raman分析表明薄膜为含Ti的非晶碳膜,而且D峰和G峰强度随着金属Ti含量的增加而减小。对Raman进行拟合,拟合结果表明G峰位置和ID／IG值随着Ti含量的增加而增大,这说明薄膜中Ti含量的增加会导致薄膜中sp3含量的减少。XRD分析表明当薄膜中Ti含量较高时形成了TiC纳米晶粒,膜的结构为非晶DLC膜基体上弥散分布着TiC纳米晶颗粒。XPS分析表明薄膜暴露在空气中受到氧污染,导致表面O的含量较高；薄膜中Ti不以金属形态存在,在表面由于受到空气中氧的污染,形成Ti02,薄膜内部主要与C相结合,形成TiC。采用显微硬度仪、基片弯曲法和摩擦磨损试验机对薄膜的性能进行测试。薄膜的显微硬度值随着Ti含量的增加由1591Hk增加至2195Hk；薄膜中存在着压应力,随着金属Ti含量的增加,应力大小由2.58Gpa减小至0.89Gpa;薄膜的摩擦系数较低,并且随着金属Ti含量的增加,由0.125增加至0.169。