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薄膜科学在现代科技领域中有着广泛的应用,研究薄膜的生长过程对于发展新性能的新型材料及提高传统薄膜材料的质量和性能都有着重要的指导作用。基于计算机技术的薄膜生长的蒙特卡罗模拟可以动态通真地显示薄膜的生长过程,直观合理地解释实验观察的现象,为调整优化薄膜制备工艺条件、创建或补充理论提供重要依据。本文基于蒙特卡罗方法对薄膜的生长过程进行了计算机模拟研究。在研究过程中以金属铜为对象,模拟其在面心立方(100)面的生长,获得了不同基底温度下薄膜生长的表面形貌,分析了基底温度对薄膜生长的影响,得到了