电子帘加速器是一种低能电子加速器，广泛应用于薄膜辐照及涂层固化。在实际工业应用中，辐照幅度较宽的材料时需要较长的阴极，这样阴极下垂挠度增大，电子束发散使辐照质量降低。北京机械工业自动化研究所曾经研制了一台阴极长为500mm的电子帘加速器，电子密度分布均匀度好于±10％，但是对更长阴极电子帘加速器的电子束分布均匀度并没有做进一步的研究。本文着重讨论阴极下垂对电子束流纵向分布影响。论文从电场的改变、栅极缝透镜效应焦距的改变以及电子发射密度改变等方面分析了阴极下垂对电子纵向分布的影响。对CST软件的算法、网格划分、电子源设定以及运行参数等进行了研究，以使能够在现有设备的基础上得到最好的结果。完整地模拟了一种情况下的电子纵向分布，并对其结果进行分析发现随阴极下垂最终在钛窗上的电子数量并不随之单调减少。力图通过改变栅极电压及聚焦极形状来改善电子纵向分布，因此模拟了不同栅极电压及不同聚焦极形状的电子纵向分布并将结果比较，最终认为仅通过改变栅极电压来改善提高穿过钛窗的电子总量及电子纵向分布的均匀度不可行并大致确定了聚焦极形状改变的方向，为以后长阴极电子帘加速器的研究工作提供了帮助。