可溶性酞菁化合物和三联吡啶衍生物合成与光电性能研究

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酞菁类有机光电材料作为光电材料研究的热点,其光电效应和光稳定性好,但大多数酞菁类材料的溶解性不好,限制了其应用领域。本文首次合成了几种烷氧基轴向取代硅酞菁,改善了硅酞菁在有机溶剂中溶解能力。并进一步研究了这几种烷氧基取代硅酞菁的光电性能。此外,本文还将这几种硅酞菁衍生物与PMMA制备成薄膜,提高了该类材料的发光性能和应用领域。为今后该类材料的研究及应用提供了重要的理论数据。  研究发现:1.随着烷氧基碳链和溶液中溶剂极性的变化,该类硅酞菁衍生物的紫外吸收和荧光发射都呈一定的变化规律,并且在近红外有发光现象。  2.通过循环伏安法测量分子能级和带隙可以发现:随着烷氧基的引入,该类烷氧基取代硅酞菁的光电转换性能没有明显的变化。  3.由热分析可以得到这几种硅酞菁衍生物的热性质递变规律,并且可依此来推测具有相似结构的热性质。  4.同浓度的PMMA膜与溶液态相比,荧光发射波长发生蓝移,且荧光发射强度明显增强。  三联吡啶体系也是一类重要的有机光电材料,本文首次合成了三甲基硅乙炔取代三联吡啶并且对三联吡啶体系在离子响应中的应用做了相关的探究,研究发现:  1.该结构对亚铁离子具有选择性和抗干扰性。  2.在一定的范围内,亚铁离子的浓度与文中的两种三联吡啶衍生物的紫外吸光度呈线性关系。  3.对于不同的三联吡啶衍生物,具有供电子效应基团的离子响应材料在检测亚铁离子上更加敏感。
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