NixMg1-xO薄膜的制备技术研究

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在正常温度下氧化镍薄膜的带隙处于3.6-4.0ev范围内,与氧化锌薄膜的禁带宽度相比,氧化镍薄膜的更大一点,但终究还是不能实现日盲紫外探测,为了使氧化镍薄膜的禁带宽度增大,我们就要对氧化镍薄膜进行合理的掺杂,使得氧化镍薄膜的光谱响应位于日盲光谱范围内。因此,本论文通过采用磁控溅射的方法制备氧化镍薄膜,然后选择Mg元素,对氧化镍薄膜进行掺杂,使其薄膜的光谱响应位于日盲光谱范围内。本论文我们主要研究的步骤如下:(1)利用磁控溅射的方法制备未掺杂的氧化镍薄膜,并对未掺杂的氧化镍薄膜进行了结构特性、透射光谱、带隙等方面的研究。(2)通过对掺杂元素的理论分析,我们选择了镁元素对氧化镍薄膜进行掺杂,使其带隙向“太阳盲”波段靠近,并对不同镁含量下的氧化镍镁薄膜进行了结构特性、晶粒尺寸、透射光谱以及带隙的特性进行研究。
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