磁场增强等离子体辅助原子层沉积氮化铝及其光学性能研究

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本文研究了磁场增强等离子体辅助原子层(PA-ALD)技术低温沉积氮化铝薄膜,并对其光之发光性能测量。通过改变各种沉积参数,研究降低薄膜中杂质含量的方法和影响的因素。采用傅立叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的结构进行表征、X射线衍射仪(XRD)测量膜的结晶性、采用椭偏仪(SE)和荧光光谱仪(FS)对膜的光学性能进行研究。通过等离子体参数的发射光谱(OES)测量,说明影响沉积薄膜结构的内在因素。得出结论如下:(1)通过各种测试手段的表征证明采用磁场增强等离子体辅助原子
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