本论文以金属铜作为基体材料,通过贵金属修饰、普通金属修饰和无机非金属修饰等三种不同的方法,在不使用含氟等低表面能物质修饰的条件下,成功在金属铜表面构造出了具有微纳米粗糙结构的超疏水表面。并利用接触角测量仪、场发射扫描电镜（FE-SEM）、X-射线能谱仪（EDS）、X-射线衍射仪（XRD）和X-射线光电子能谱仪（XPS）等设备对超疏水样品进行一系列的表征,并且进一步研究了超疏水样品在紫外光照射条件和大气环境条件下的表面稳定性能。主要研究内容如下:1.不经过低表面能物质修饰,在铜片上经化学沉积贵金属制备出超疏水表面;其接触角大于160°,滚动角小于5°,具有优异的超疏水性能;通过FE-SEM可以观察到在铜表面上沉积了一层菜花状的微纳米粗糙结构,这是因为将铜片浸没在氯金酸和氯铂酸溶液中,会发生置换反应,被置换出的金和铂会沉积在铜片表面;通过光照实现了铜片上贵金属修饰超疏水表面的超疏水/超亲水可逆转变,贵金属修饰超疏水表面变为超亲水,后经加热一段时间后又恢复到原来的超疏水状态,经过多次循环重复试验,依然表现出良好的超疏水性能。2.不经过低表面能物质修饰,在铜片上经电镀铜制备出超疏水表面;制备出接触角为162.0°、滚动角为4.1°的超疏水铜表面;实验发现,本实验最佳实验条件为电镀时间180 s、电镀电压为2.5 V及适宜的电镀温度为40℃;在FE-SEM条件下观察到在铜表面上电沉积了一层桫椤树叶形状的微纳米粗糙结构,其原理是因为阳极的石墨会将溶液中游离的Cu²⁺还原成单质铜,析出的单质铜会沉积在铜片表面;通过光照实现了铜片上铜修饰超疏水表面的超疏水/超亲水可逆转变,经过多次循环重复试验,依然表现出良好的超疏水性能。3.不经过低表面能物质修饰,在铜片上经化学沉积非金属制备出超疏水表面;制备出接触角为152.8°、滚动角为8.1°的超疏水表面;实验发现,该实验最佳反应时间为30min;经过一系列表征,结果表明其表面的沉积物质为CuCl且这些沉积物质在铜基体表面构造出正方体结晶状的微纳米粗糙结构;本实验的实验原理是利用歧化反应将CuCl₂溶液中的Cu²⁺通过单质铜还原成Cu+,生成的CuCl颗粒均匀的沉积在金属铜表面,铜修饰超疏水表面变为超亲水后,经过暗室保存一段时间可以恢复到原来的超疏水状态;通过光照实验证明CuCl修饰超疏水表面经光照后无法实现超疏水/超亲水可逆转变。