渗透压补偿溶质是指那些与细胞内的体系相容而不影响其它生物大分子功能的溶质。其中四氢嘧啶是中度嗜盐菌中普遍存在的一种渗透压补偿性溶质。四氢嘧啶在制药、食品、化妆品、生物制剂、酶制剂、农业和化学合成药物及有机电子材料等领域具有很大的应用价值和广泛的应用前景,它的研究受到关注。目前,人们把大量的兴趣投注在菌株选择和制备工艺上,以期获得最大产量的四氢嘧啶。但是,四氢嘧啶是嗜盐菌胞内产物,其产量较低,分离提取的生产成本较高,制约了它的推广应用。因此,提高产量的研究具有重要意义。为了提高四氢嘧啶的制备效率,本文从合成四氢嘧啶的常用菌株中筛选出胞内浓度阈值最高的H.venusta DSM4743菌株作为制备四氢嘧啶的最优菌株,分别考察了碳源、NaCl浓度、酵母膏添加量对H.venusta DSM4743菌株合成四氢嘧啶的影响,得到了最优化条件为：MG培养基,1.5mol/L的NaCl浓度,0.5%的酵母粉添加量。据此分别用分批发酵罐法和流加发酵罐法考察了H.venusta DSM4743菌株的四氢嘧啶合成效率,其中流加发酵罐法四氢嘧啶合成效率最高,是合成四氢嘧啶更为优越的一种方法。为了考察菌株H.venusta DSM4743在低渗条件下四氢嘧啶的释放率,本文进行了细菌挤奶试验,经过6次渗透压冲击循环后,四氢嘧啶的总合成量可达14.7g/L,总释放量达到14.3g/L,平均释放率为97%,合成效率为2.1g/L(L·d)。本文还尝试了合成四氢嘧啶的新方法,采用逐步提高培养基中NaCl浓度来诱导四氢嘧啶的合成,研究发现NaCl浓度梯度增加组四氢嘧啶合成量、单位细胞四氢嘧啶合成量均明显高于NaCl浓度恒定组。